Estudantes do Partiu IF representam quase 60% dos aprovados no Campus Bom Sucesso

O desempenho dos estudantes do Programa Partiu IF foi destaque no recente Processo Seletivo 2026/1 do Campus Bom Sucesso. Dos 47 candidatos aprovados para as vagas ofertadas, 28 são oriundos do programa, o que corresponde a 59,57% do total de aprovados, evidenciando o impacto positivo da iniciativa na preparação dos estudantes para o ingresso nos cursos técnicos.

Entre os destaques gerais, a aluna Maria Fernanda Andrade Martins alcançou a maior nota de todo o processo seletivo no Campus. Logo em seguida, os estudantes Miguel Anacleto da Mata, João Pedro Santos Andrade e Nicolas Alves Campideli obtiveram a segunda maior pontuação. Já a terceira maior nota foi conquistada pelas alunas Gabriela Avelar Silva e Isabela Maria Silva Pereira, reforçando o protagonismo dos participantes do Partiu IF entre os primeiros colocados.

No curso Técnico em Administração, o desempenho dos estudantes do programa foi ainda mais expressivo. Dos 30 aprovados, 19 são alunos do Partiu IF, representando 63,33% do total. As primeiras colocações em diferentes grupos de concorrência também ficaram com participantes do programa:

• AC-TINT: Maria Fernanda Andrade Martins

• LB-EP-TINT: Nycollas Neves de Paula

• LI-EP-TINT: Rafael Hiago do Nascimento Raimundo

• LI-PPI-TINT: Ana Clara Silva Andrade

Já no curso Técnico em Meio Ambiente, a aluna Gabriela Avelar Silva conquistou a primeira colocação, enquanto Luis Fellipe Machado Andrade ficou em terceiro lugar. Do total de 17 aprovados no curso, 9 são estudantes do Partiu IF, o que corresponde a 52,94% dos ingressantes.

A expectativa é de que esse percentual de participação aumente nos próximos dias, com a publicação do edital de vagas complementares, cujo critério de seleção contemplará candidatos que participaram do processo seletivo e permaneceram na lista de espera.